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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測(cè)試、提供設(shè)備 試機(jī)

20年專注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家

解讀誠(chéng)峰智造關(guān)于plasma清洗設(shè)備表層工藝處理性能

解讀誠(chéng)峰智造關(guān)于plasma清洗設(shè)備表層工藝處理性能:
        crf誠(chéng)峰智造plasma清洗設(shè)備可以和各種不同的后續(xù)制作工藝相配合,其中為典型的后續(xù)加工包括包裝印刷,粘合,噴涂。crf誠(chéng)峰智造plasma清洗設(shè)備適用多種行業(yè)的制造業(yè)使用,能為差異材料或者復(fù)合材料給予后續(xù)的粘合,噴涂,包裝印刷前處理,使2種差異材料有效而又可靠的融為一體。plasma清洗設(shè)備清洗活化和涂層專用在數(shù)碼行業(yè)中主要為粘合、噴涂、濺鍍等工序給予前處理。

plasma清洗設(shè)備

       crf誠(chéng)峰智造plasma清洗設(shè)備在電子產(chǎn)品中使用多的目標(biāo)是手機(jī)外殼、手機(jī)按鍵、筆記本電腦外殼、筆記本鍵盤、塑膠產(chǎn)品等。廣泛地使用原材料有聚乙烯,聚丙烯,聚氯乙烯,聚酯,聚甲醛,聚四氟乙烯,乙烯基,尼龍,(硅)橡膠,有機(jī)玻璃,ABS等塑料的包裝印刷,涂覆和粘合等工序的表層預(yù)處理。而這些素材的形狀、寬度、高度、材料類型、工序類型、是否需要在線處理都直接影響和決定了整個(gè)表面處理設(shè)備的解決方案,plasma清洗設(shè)備的主要特點(diǎn):
    1. 均勻度高:大氣壓plasma清洗設(shè)備是輝光式的等離子幕,直接作用于材料表層,實(shí)驗(yàn)證明,同一材料差異位置的處理均勻性很高,這一性能相對(duì)于制造業(yè)行業(yè)進(jìn)行下一環(huán)節(jié)的邦定、涂膜、包裝印刷等制程十分重要。
    2. 效果可控:大氣壓等離子有三種效果模式可選。一是選用氬氣/氧氣組合,主要面向非金屬材料并且要求較高的處理效果時(shí)采用。二是選用氬氣/氮?dú)?組合,主要面向待處理產(chǎn)品有不能被處理的金屬區(qū)域,因氧氣的強(qiáng)氧化作用,替換為此方案中的氮?dú)夂螅搯?wèn)題可以加以控制。三是只采用氬氣的情況,只采用氬氣也可以實(shí)現(xiàn)表層改性,但是效果相對(duì)較低。此種情況較特殊,是少數(shù)制造業(yè)客戶需要有限度的同時(shí)均勻的表層改性時(shí)采用的方案。
    3. 安全可靠穩(wěn)定:大氣壓式等離子,也是低溫等離子,并不會(huì)對(duì)材料表層帶來(lái)?yè)p傷。無(wú)電弧,無(wú)需真空腔體,也無(wú)需有害氣體吸出系統(tǒng),長(zhǎng)時(shí)間使用并不會(huì)對(duì)操控員工帶來(lái)身體損害。


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誠(chéng)峰智造——專注等離子研發(fā)20年

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