支持材料 測(cè)試、提供設(shè)備 試機(jī)
20年專(zhuān)注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家
20年專(zhuān)注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家
典型的等離子化學(xué)清洗工藝是o2中頻plasma清洗機(jī)。電漿中的氧自由基非?;顫?,很容易與烴類(lèi)反映產(chǎn)生揮發(fā)性的物質(zhì),例如CO2、CO、H20,從而去除表面的污染物。等離子體清理主要是物理反應(yīng),又叫濺射浸蝕(SPE)或離子銑(IM),生化學(xué)變化,清理表面不會(huì)留下氧化物,能保持被清理物體的化學(xué)純度。另一種中頻plasma清洗機(jī)的清理是表面反應(yīng)機(jī)制中的物理反應(yīng)和化學(xué)變化,即反映正離子浸蝕和反映電子束浸蝕,2種清理互相促進(jìn),離子轟擊破壞被清理表面,削弱化學(xué)鍵,形成原子態(tài),容易吸收反映劑,正離子碰撞加熱被清理物,容易發(fā)生反映。
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