誠峰智造CRF常壓等離子機噴涂法控制涂層技術難點：
       CRF常壓等離子噴涂工藝將粉粒載氣送入高溫、高速等離子體焰流，加熱加速、制冷、制冷，在熔化或半熔化狀態(tài)下，快速展開、制冷固化，最終產生平面單層，與襯底接觸。在宏觀尺度上，大量單層不斷堆積最終產生薄膜。大氣層等離子噴涂涂層的特征單元，單片層的形態(tài)特征和單片層間的疊加行為決定了涂層的微觀結構。單層是熱噴涂制備涂層的結構單元，其特點與涂層的宏觀性能密切相關。

       大氣壓CRF常壓等離子噴涂技術可控鍍層技術的難點在于工藝中有很多因素需要控制，而且經常互相影響。熔點高、速度快、物理化學狀態(tài)廣泛分布的特點，對實時觀測和過程控制都是一個挑戰(zhàn)。在CRF常壓等離子噴涂工藝中，單片層的產生主要受控于熔滴制冷能力。熔滴快速制冷時，液體化學物質流通性快速減少，趨向于產生盤狀單片層；相反，濺射趨勢較強。
       與涂層性能密切相關的是由于單片層外形變化所引起的：盤狀單片層與基片的結合強度較高，而濺射狀單片層與基片的結合強度相對較低。利用現(xiàn)場測溫、測速，尤其是能夠跟蹤熔滴內溫度和速度的測量，無疑是研究工藝參數(shù)對單片層特性影響的有效手段。另外，單片層狀結構特征的數(shù)據化及其與涂層整體性能之間建立(半)定量關系也是今后研究的重要方向。