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CRF誠峰電暈等離子處理機體現(xiàn)在五個方面

CRF誠峰電暈等離子處理機體現(xiàn)在五個方面：誠峰電暈等離子處理機可用于納米表面清潔和試品激活，是一類微型處理機.無破壞性超清洗設(shè)備。等離子體清洗設(shè)備選用氣體作為清潔介質(zhì)，合理預(yù)防...
發(fā)布時間:2022-09-09
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大氣壓等離子處理機在手機中的線路板控制模塊的清洗應(yīng)用

大氣壓等離子處理機在手機中的線路板控制模塊的清洗應(yīng)用：當(dāng)今的消費電子市場，除了純技術(shù)功能，設(shè)計、外觀和感覺也是影響購買者購買決策的關(guān)鍵因素。對于而言，機殼的設(shè)計至關(guān)重要，在...
發(fā)布時間:2022-09-06
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plasma設(shè)備去除印刷版膠體和深入微孔中清洗

plasma設(shè)備去除印刷版膠體和深入微孔中清洗：鑒于HDI板孔徑比較小，常規(guī)的化學(xué)反應(yīng)加工工藝不能滿足對盲孔結(jié)構(gòu)的清潔標(biāo)準(zhǔn)，液體表面張力導(dǎo)致藥液無法滲入孔洞中，特別是在當(dāng)激光鉆入微盲...
發(fā)布時間:2022-09-04
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crf等離子活化機清洗納米級芯片后，效果該如何評估

crf等離子活化機清洗納米級芯片后，效果該如何評估：水滴角檢測儀能評測等離子活化機前后清洗材料表面處理的差異。該設(shè)備是專業(yè)分析性儀器，使用蒸餾水作為檢測液，利用水表面張力的高靈...
發(fā)布時間:2022-09-01
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CRF等離子刻蝕機里通入的四氟化碳在高頻電離下產(chǎn)生的反應(yīng)

CRF等離子刻蝕機里通入的四氟化碳在高頻電離下產(chǎn)生的反應(yīng)： CRF等離子刻蝕機的基本要素關(guān)鍵分成清理、活化、改性（沉積）及蝕刻，完成這一些基本要素除對自放電方式方法和電極材料構(gòu)造有...
發(fā)布時間:2022-08-30
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