plasma設備表面處理在半導體生產(chǎn)工藝中幾乎每個環(huán)節(jié)都能使用到，半導體生產(chǎn)工藝中最復雜最頻繁的工序之一—晶圓片清洗，直接影響到整體的性能、成品率和可靠性，等離子表面處理作為一種綠色環(huán)保、高效、安全的清洗方式，在對晶圓片清洗的好處有很多，今天就和誠峰智造一起看看等離子表面處理用于晶圓片工藝的優(yōu)勢所在。晶圓在封裝前等離子處理的目的：去除表面的無機物和污染物，氧化層還原，銅表面的粗糙度提高，產(chǎn)品的可靠性提高。

1、使用plasma設備對晶圓片的表面進行處理，鉆孔微小，對表面和電路的損害可以忽略不計，不僅可以徹底清潔，同時還降低了成本。
2、plasma設備表面處理還具有刻蝕功能，能夠活化表面，過程中不會引入污染物，能夠保持潔凈度。
3、plasma設備清洗處理采用的清洗介質(zhì)是氣體，簡單操作之下就能夠在深且狹窄溝槽里的污染物去除，在半導體生產(chǎn)過程中一些很難處理掉的光刻膠殘留物能夠使用等離子清洗技術有效清除掉。
通過plasma設備去處理晶圓片，不僅可以獲得超清潔的晶圓片表面，還可以增加表面活性，適合后續(xù)的處理，需要注意的是晶圓封裝前處理的等離子清洗機由于產(chǎn)能的需要，在使用真空等離子表面處理時，參數(shù)的設計會有顯著區(qū)別。

       以上就是誠峰智造所分享的晶圓片使用等離子表面處理的優(yōu)勢所在，如果還想知道有關plasma設備表面處理的知識的話，歡迎點擊在線客服或者撥打我們的熱線電話，誠峰智造靜候您的的來電！