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CRF- APO-500W-C/W-S (非標準定制)
自動On-Line式AP等離子處理系統 CRF-APO- 500W-C/W-S;
帶有自動上下料裝置,實現全自動化生產,設備優化升級,節省人工,降低成本;
配置PLC+觸摸屏控制方式,采用精準運動模組,操作簡便;
可選配噴頭數量,滿足客戶多元化需求;
配置專業集塵系統,保證產品品質和等離子表面處理設備的整潔、干凈。
13632675935
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名稱 | 自動On-Line式AP等離子處理系統 |
型號 | CRF- APO-500W-C/W-S (非標準定制) |
電源 | 220V/AC,50/60Hz |
等離子功率 | 4set*600W/25KHz(Option) |
有效處理高度 | 5-15mm |
處理寬幅 | 500mm(Option) |
處理速度 | 0-5m/min |
傳動方式 |
防靜電絕緣傳送帶/防靜電絕緣滾輪 |
噴頭數量 |
4(Option) |
工作氣體 |
Compressed Air(0.4mpa) |
自動化裝置 |
全自動上下料 |
應用范圍
自動On-Line式AP專業等離子清洗機主要應用于電子行業的手機殼印刷、涂覆、點膠等前處理,手機屏幕的表面處理;連接器表面清洗;通用行業的絲網印刷、轉移印刷前處理等。
專業等離子體清洗機plasma改性活化為干式清洗設備,具有濕式清洗不可比擬的優點,它在清洗材料表面的同時,也對材料進行了活化,有利于材料進行下一步的涂覆粘接等處理。等離子體處理機廣泛用于等離子清洗、蝕刻、等離子鍍膜、等離子涂層、等離子灰化及表面改性等方面。經處理后,可提高材料的潤濕性,使多種材料都能進行涂覆、電鍍作業,增強粘結力和粘結力,同時去除有機污染物、油污和油脂等。
等離子體表面清洗活化是由等離子體中的離子取代材料表面高分子官能團,增加表面能量的過程。等離子體活化常用于處理膠粘或印刷材料的表面。等離子體可以分解聚合物,并在接觸高能物質的材料表面產生自由基。等離子體中含有高水平紫外輻射,能在塑料或聚四氟乙烯表面產生自由基。由于材料不穩定,自由基能迅速與其自身產生反應。這樣,材料表面就可以形成穩定的共價鍵,這樣就可以印刷或與之結合。
等離子體是一種物質的高能聚集狀態,其能量范圍比氣態、液體、固態更大,被稱為物質的第四態。等離子體中存在電子、離子和具有一定能量分布的中性粒子,它們在與材料表面碰撞時向材料表面的分子和原子傳遞能量,并產生一系列物理和化學過程。有些粒子也會在材料表面注入引起碰撞、散射、激發、重排、異構、缺陷、晶化和非晶化,導致材料表面性能的變化。
按照溫度的不同,等離子體可以分為高溫等離子體和低溫等離子體。高熱等離子體可以達到10^6k~10^8k,可以用于太陽表面,核聚變,激光聚變等。一般情況下,熱等離子體為稠密等離子體,冷等離子體為稀薄等離子體。濺射、離子鍍、離子注入、等離子熱處理等技術應用于材料表面改性技術,是在低電壓條件下放電產生低壓(冷)等離子體,而低溫等離子體中的稠密熱等離子體,通常是指壓縮電弧等離子束流,也可用于等離子噴涂、淬火表面冶金等表面處理。
專業等離子體表面清洗改性技術是一種利用物理和化學方法改變材料或工件表面的組織結構和化學組成,從而改善機械零件或材料性能的熱處理技術。包括化學熱處理(滲氮、滲碳、滲金屬等);表面涂層(低壓等離子噴涂、低壓電弧噴涂、薄膜鍍層,如激光重熔復合、物理氣相沉積、化學氣相沉積等);非金屬涂層技術等。用來加強零件或材料表面的技術,使零件具有耐高溫、耐腐蝕、耐磨損、抗疲勞、抗輻射、導電、導磁等多種新性能。使得原零件在高速、高溫、高壓、腐蝕介質環境下工作,提高了可靠性,延長了使用壽命。
等離子清洗機表面清洗活化均勻性提高
等離子處理塑料表面,可對表面活化進行有效的預處理,然后再涂膠、印刷或噴漆。類似的,陶瓷、玻璃等材料也可以等離子化處理。工業氧常被用作等離子體處理的過程氣體,因此得名:氧氣等離子體。而大氣又叫大氣等離子體。影響可能只會持續幾分鐘甚至幾個月,這取決于需要用等離子處理的材料的類型。
處理是利用電暈放電改變材料表面性質的表面改性技術。材料/物體在表面進行電暈處理后,將確保與印刷油墨、涂料和粘結劑相結合。其目的是優化聚合物基材的粘結性能。高分子基材表面能低,通常會造成油墨、膠水和涂料的粘附力較差,而這些材料的表面能較高。電暈處理在塑料薄膜、擠出、汽車、醫藥等工業中被廣泛應用。為獲得粘附力,基體的表面能量必須大于或等于所用聚合物所具有的材料表面能量。
固態物質的表面能量和聚合物表面處理的需求。塑料材料經常需要與金屬或其它塑料材料粘合,或者只是在塑料表面上印刷。要使此工作順利進行,必須使用液體粘合劑或油墨潤濕材料表面。在這里需要電暈處理和等離子處理技術。潤滑性取決于表面的一種特殊性質:通常稱為表面張力的表面能。
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