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CRF plasma 等離子清洗機

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這七點助你選到滿意的真空等離子清洗機

       大家都知道真空等離子清洗機處理工件的環境是在真空進行,不污染環境,保證清洗表面不被二次污染,泄壓時可以選擇氮氣泄壓,避免空氣泄壓對工件的影響,真空等離子清洗機的應用,起源于20世紀初,隨著高科技產業的快速發展,其應用越來越廣,目前已在眾多高科技領域中,居于關鍵技術的地位。然而市面上等離子清洗機系統有眾多的品牌和型號,而等離子清洗技術又對產業經濟和人類文明影響很大,在電子資訊工業,尤其是半導體業與光電工業。隨著越來越多行業應用到等離子清洗機,那么怎么選擇適合自己的等離子清洗機就成為了尤為重要的一個問題,今天我們就來談談真空等離子清洗機該如何選型。
       1.真空等離子清洗機的工件大小
       真空等離子清洗是要把工件放入真空清洗腔內進行清洗,選擇真空清洗腔尺寸的參考因素是工件的大小和批處理的數量,一般科研型的真空等離子清洗機的腔體是圓柱體的,容積有2L、3L、5L和10L,結合工件的大小和批處理的數量選擇適合的真空腔體。
       2.真空等離子清洗機的產能
       任(何)產品如果有產能要求的話,肯定是需要根據產能來選腔體大小,腔體越大也就意味著一次能處理的產品也就更多,如果對產能沒有太多要求的話,優先考慮工件大小。在工件能夠放下的前提下,我們在根據產能計算得出合適的腔體尺寸。我們還要考慮的問題,就是選擇哪種頻率的等離子清洗機。
       3.真空等離子清洗機頻率的選擇
       目前常見的頻率有40KHz和13.56MHz,20Mhz。40kHz的自偏壓為1000V左右,13.56MHz自偏壓為250V左右,20MHz的自偏壓則更低,這三種激發頻率的機制不同,40kHz發生的反應為物理反應,13.56MHz發生的反應既有物理反應又有化學反應,20MHz有物理反應但更主要的反應為化學反應,需要對材料進行活(化)、改性的要用13.56MHz或者20MHz的等離子體清洗40kHz的自偏壓為1000V左右,13.56MHz自偏壓為250V左右,20MHz的自偏壓則更低,這三種激發頻率的機制不同,40kHz發生的反應為物理反應,13.56MHz發生的反應既有物理反應又有化學反應,20MHz有物理反應但更主要的反應為化學反應,需要對材料進行活(化)、改性的要用13.56MHz或者20MHz的等離子體清洗。
       4.真空等離子清洗機腔體材質的選擇
       目前常見的腔體材質有以下幾種,石英腔體,不銹鋼腔體,鋁合金腔體,三種腔體各有各的優勢,石英腔體溫度低,且不易發生反應。鋁合金腔體的優勢:1、 鋁合金密度低,強度高,超過優質鋼,機械加工性能比較好。 2、 鋁具有優良的導電性、導熱性和抗蝕性。 3、材料對化學反應的兼容性比較好,不易產生金屬污染、particle等。
       5.真空等離子清洗機真空泵的選擇
       是選擇國產的泵,還是進口的,是干泵還是油泵,是單級泵,還是雙極泵,每一種真空泵的選擇都可以根據客戶的實際需要來選取,這里就不做過多的贅述。
       6.真空等離子清洗機氣路的選擇
       常見的真空等離子清洗機都是兩路氣體通道,但是這并不能滿足所有的處理需求,如果需要更多的反應氣體,那么氣體通道就要適當增加,這個也是根據客戶的實際需求來選擇幾路氣體通道。
       7.真空等離子清洗機選擇的品牌
       進口等離子清洗產品發展較早,產品較為成熟,但供貨時間較長,售后維修服務不及時,產品升級換代較慢,在人性化設計、自動化程度和擴展應用上沒有及時更新、升級,且價格較高。 國內等離子清洗市場處于快速發展階段,各個廠家的產品質量參差不齊,有些廠家缺乏基礎研究和應用知識,品牌意識不強,對售后服務不重視,一錘子買賣。

真空等離子清洗機

       等洗處理工件歸納起來有兩方面的作用——物理和化學。物理作用——利用等離子體里大量的離子、激發態分子、自由基等多種活性粒子作純物理的撞擊,把工件表面的原子或附著材料表面的原子打掉,清(除)表面原有的污染物和雜質,與此同時會產生刻蝕效應,將工件表面變“粗糙”,形成許多微細坑洼,增大了樣品的比表面積,提高工件表面的潤濕性能。
       真空等離子清洗儀在發展過程中,不斷結合客戶的實際需要開發出新的功能, 從功能上來分真空等離子清洗機主要分為手動版和自動版,手動版也叫基礎版,價格較為便宜,自動版相對于手動版功能上增加了設置清洗時間、自動泄壓、微電腦控制、提供兩路進氣(以便在清洗的時候通入氧氣,所以也有客戶把可以通入氧氣清洗的等離子清洗機稱為氧等離子清洗機),泄壓速度可以調節(適用于清洗石墨烯或者金屬氧化物粉末),泄壓時可以提供氮氣泄壓的接口等,建議客戶在預算充裕的情況下選擇自動版本,后期的使用要方便很多。

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