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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

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等離子清洗機(jī)去除晶圓表面殘留物,增加半導(dǎo)體材料表面特性

等離子清洗機(jī)去除晶圓表面殘留物,增加半導(dǎo)體材料表面特性:
        在半導(dǎo)體制作工藝中,基本上每道工序中都需要清洗,其目的在于完全徹底去除器件表面的微粒、有機(jī)物和無機(jī)物的沾污雜質(zhì),圓片清洗質(zhì)量的好壞對(duì)器件特性都會(huì)有很大的影響。等離子清洗機(jī)有著工藝簡(jiǎn)單、操作簡(jiǎn)便、沒有廢料處理和環(huán)境污染等諸多問題,等離子清洗機(jī)在半導(dǎo)體晶圓清洗工藝中有著操作簡(jiǎn)便、工作效率高、表面干凈、無劃傷、有益于保證產(chǎn)品品質(zhì),且等離子清洗機(jī)不用酸、堿及有機(jī)溶液等。

等離子清洗機(jī)

      半導(dǎo)體封裝制造業(yè)中普遍運(yùn)用的物理性和化學(xué)性質(zhì)形式主要包括兩種類型:濕式清理和干式清理,特別是干式,發(fā)展很快。在這干式清理當(dāng)中,等離子清洗擁有比較突出的特色,能夠促進(jìn)增加晶粒與焊層的導(dǎo)電的性能。焊料的潤(rùn)濕性、金屬線的點(diǎn)焊強(qiáng)度、塑料外殼包覆的安全性。在半導(dǎo)體元器件、光電子器件系統(tǒng)、晶體材料等半導(dǎo)體集成電路運(yùn)用中都有廣泛的行業(yè)應(yīng)用。
       在倒裝半導(dǎo)體集成電路中,對(duì)集成IC和半導(dǎo)體集成電路載體的加工處理不但能夠得到超潔凈的點(diǎn)焊接觸面,另外能夠大幅提高點(diǎn)焊接觸面的化學(xué)活化,有效避免虛焊,有效減少空洞,增加點(diǎn)焊品質(zhì)。它還能夠增加填充料的外緣高度和兼容問題,增加集成電路芯片封裝的機(jī)械強(qiáng)度,減少因?yàn)椴灰粯硬牧系臒崤蛎浵禂?shù)而在表面相互之間產(chǎn)生的里面剪切力,增加產(chǎn)品的安全性和壽命。
       等離子清洗機(jī)應(yīng)用于晶圓表面處理,一臺(tái)就可以完成對(duì)材料的表面改性,增強(qiáng)附著力、活化、接枝、涂層、刻蝕,應(yīng)對(duì)材料表面難題,杜絕粘接開膠,增強(qiáng)油墨附著力,涂裝脫漆,焊接不牢固,密封不嚴(yán)漏氣等諸多問題。

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