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CRF plasma 等離子清洗機

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等離子體清洗的優勢在油脂污垢表現的很突出

       等離子體對油脂污垢的作用,類似于使油脂污垢發生燃燒反應;但不同之處在于在低溫情況下發生的“燃燒”。在氧氣等離子體中的氧原子自由基,激發態的氧氣分子,電子以及紫外線的共同作用下,油脂分子被氧化成水和二氧化碳分子,并從從物體表面被清(除)。可以看出,用等離子體清(除)油污的過程是一個使有(機)大分子逐步降解的過程,形成的是水喝二氧化碳等小分子,這些小分子以氣態形式被排除。
       等離子體清洗的另一個特點是在清洗完成之后物體已被徹底干燥。經過等離子體處理的物體表面往往形成許多新的活性基團,使物體表面發生“活(化)”而改變性能,可以大大改善物體表面的浸潤性能和黏著性能,這對許多材料是很重要的。因此等離子清洗具有許多用溶劑進行的濕法清洗所無法比擬的優點。

等離子體

       等離子體清洗由真空室,真空泵,高頻電源,電極,氣體導入系統,工件傳送系統和控制系統等部分組成。整個清洗過程大致如下;被清洗的工件送入真空式并加以固定,啟動運行裝置,開始排氣,使真空室內的真空程度達到10Pa左右的標準真空度。一般排氣時間大約需要幾分鐘。
       向真空室內引入等離子體清洗用的氣體,并保持腔內壓強穩定。根據清洗材質的不同,可分貝使用氧氣、氬氣、氫氣、氮氣、四氟化碳等氣體。在真空室內的電極與接地裝置之間施加高頻電壓,使氣體被擊穿,并通過輝光放電而發生等離子化和產生等離子體,讓在真空室產生的等離子體完(全)籠罩住被處理工件,開始清洗作業,一般清洗處理持續幾十秒到幾十(分)鐘不等。清洗完畢后切斷電源,并通過真空泵將氣體和氣化的污垢抽走排出。
       等離子體清洗的另一個特點是在清洗完成之后物體已被徹底干燥。經過等離子體處理的物體表面往往形成許多新的活性基團,使物體表面發生“活(化)”而改變性能,可以大大改善物體表面的浸潤性能和黏著性能,這對許多材料是很重要的。因此等離子體清洗具有許多用溶劑進行的濕法清洗所無法比擬的優點。與濕法清洗相比,等離子體清洗的優勢表現在以下幾個方面:
       在經過等離子體清洗之后,被清洗物體已經很干燥,不必再經干燥處理即可送往下道工序。不使用三氯乙烷等有害污染物,屬于有利于環保的綠色清洗方式、用無線電波范圍的高頻產生的等離子體與激光等直射光線不同, 它的方向性不強,因此它可以深入到物體的微細孔眼和凹陷的內部并完成清洗任務,所以不必過多考慮被清洗物體形狀的影響。而且對這些難清洗部位的清洗效(果)與用氟利昂清洗的效(果)相似甚致更好。整個清洗工藝流程在幾分鐘內即可完成,因此具有產率高的特點。

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