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CRF plasma 等離子清洗機

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UV紫外線光解和真空等離子清洗機技術的區別分析

       UV紫外外光分析和真空等離子清洗機技術是有機廢氣處理中常用的2種方法。兩者均可將廢氣中的有機成分分解成無害的水和CO2,從而防止二次污染。但兩者,各有利弊。
       紫外光解是一種雙光譜特性,使用特殊的低壓紫外燈同時發射185納米和254納米紫外線。發射的185nm紫外光,能夠在空氣中觸發02(氧),并轉化成03(臭氧)。臭氧層具有很強的氧化能力,與廢氣中的烴(如苯、烴、醇、脂等)充分混合接觸。),在燈管發出254納米紫外線的催化條件下,可直接氧化分解H2O和CO2。可見,由紫外燈管發出的185nm紫外光可以當做氧化劑;而燈管發射的254nm紫外線,則可以當做必要的條件使光解反應得以順利進行。然而,紫外線燈管產生臭氧層的能力很低。例如,最常用的臭氧紫外線燈管是150WU形。當氧氣充足時,每小量只有6毫克/瓦。在光解反應中,臭氧是一種關鍵的反應物質,其產生量的多少直接影響到處理效果。等離子體技術是利用高壓電場,使空氣中的02電離產生03,其臭氧產生效率比紫外燈要高很多。本實用新型采用激發式真空等離子清洗機作為清洗設備,能合理地防止被清洗物對二次污染。本機裝置配有真空泵,在保持真空設備內腔真空的條件下,能夠快速、徹底地清除真空等離子體中反應的污染物,能夠在短時間內迅速、徹底地去除污染物。

真空等離子清洗機

       所以,我們把這2種處理方法結合起來。在光解設備的前部安裝了真空等離子清洗機,真空等離子清洗機產生的03與有機廢氣混合,通過紫外線燈管流動。紫外光管可進一步激發03的產生,同時在254nm紫外光的催化作用下,03與有機物的反應效率大大提高,從而獲得了理想的處理效果。因為電漿燈比紫外燈管具有更高的臭氧產生效能,使設備的耗能隨之降低,節能效果顯著。目前常用的等離子技術有非真空和真空2種類型。直立式和蜂窩式兩種真空等離子清洗機,它們需要的額定電壓非常高,約1.5~18000伏,因此對系統的絕緣要求非常高。使用過程中產生的電弧較大,且直接與空氣接觸,用于處理易燃氣體I藝時,存在很大的火災隱患。
目前的真空等離子清洗機均采取軟玻璃制造,具有以下優點:
1、所需額定電壓大幅度降低,約2-3千伏,從而大大降低了系統絕緣要求,同時減少了由高壓電火花引發易燃氣體的可能性;
2、所產生的電弧大部分是封閉在真空管道內,更使火災發生的可能性大大降低。但是軟料玻璃的缺點是,在工作環境溫度變化較大的情況下,很容易出現裂紋,而真空狀態被破壞,不能繼續工作。它的穩定性很差,使用壽命短,限制了其在生產中的實際應用。
       CRF真空等離子清洗機方案設計合理合理,需要不同材料的配合。防靜電托架可避免靜電對產品造成的影響。等真空等離子清洗機可以在等離子轟擊或發生化學反應的基礎上對產品表面進行離子注入、活化和清潔。在面層上進行粘接,可以顯著提高粘接強度。


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